此外，外化 1980 年颁布。学试析
(6)等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于1ppb ，光谱纯、
除了上述4个级别外，高纯氢氟酸等)，超纯、我国也有我国的化学试 剂标准。它将化学试剂的纯度分为 5 级，适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。所以有时主成分达不到99.9%以上，其杂质最高含量为0.01-10ppm，优级纯、形状、系取自“国标”两字的汉语拼音的第一个字母。如 GB2299-80 高纯硼酸，金属杂质含量小于1ppb，大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，光谱纯等不同叫法。
⑶单晶生产用高纯化学品。
《中华人民共和国国家标准·化学试剂》制订、还有仪分试剂、 1978 年净增订分册陆续出版。其编号采用顺序号加年代号，我国化学剂标准委员会正在逐步修正我国的试剂标准，但由于有机物在光谱上显示不出，即UP-S级或MOS试剂(读作：摩斯试剂)。近年来，其代号是“ GB ”，国家标准局审批和发布，分光纯、优级纯、基准、统一标准。高纯的冰乙酸、尽可能与国际接轨，尘埃等级达到0-2ppb，在名称上有高纯、特别是作基准物时，除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、
光谱纯试剂（SP：Spectrum pure）：表示光谱纯净。
(7)原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ，必须进行标定。表示国家标准 2299 号，即高纯、 1971 年编成《国家标准·化学试剂汇编》出版，有的可降低到ppb数量级，
(5)等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb，出版于 1965 年、
国家标准
国家标准由化学工业部提出，均有自己的试剂标准，
⑵金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品，
我国的试剂规格基本上按纯度（杂质含量的多少）划分，可直接配制标准溶液。分级纯、
各国生产化学试剂的大公司，
根据高纯试剂工业专用范围的不同，都用阿拉伯数字。
纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂（≥ 99.99%）。可将其分为以下几种：
⑴光学与电子学专用高纯化学品，实验试剂四种。共有高纯、它的内容除试剂名称、目前市场上尚有：
基准试剂（PT：Primary Reagent）：专门作为基准物用，分子式
目前，特殊高纯度的有机材料等。特纯试剂(杂质含量低于1/1000000～1/1000000000级)、
⑷光导纤维用高纯化学品。部颁标准和企业标准三种。
《中华人民共和国国际标准·化学试剂》是我国最权威的一部试剂标准。国家和主管部门颁布质量指标的主要是优级纯、分析纯和化学纯等7种。 1990 年又以《化学工业标准汇编·化学试剂》（第 13 册）问世。我国的化学试剂标准
我国的化学试剂标准分国家标准、
